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Poliermittel

Feinstpolitur optischer Komponenten

Wir produzieren Poliermittel für höchste Oberflächenansprüche und sehr gute Abtragsraten. Die Suspensionen werden zur Oberflächenpolitur diverser Materialien verwendet, besitzen eine homogene Kornverteilung und trocknen nicht an.

Typ XC-7

Poliersuspension aus kolloidalem Siliziumdioxid für die Feinstpolitur von Kristallen, Metallen und Sonderwerkstoffen wie bspw. Silizium, Saphir, YAG, CaF₂.
Partikelgröße: 7 – 10 nm

Typ XC-35 / XC-40

Poliersuspension aus kolloidalem Siliziumdioxid für die Feinstpolitur von Kristallen, Metallen und Sonderwerkstoffen wie bspw. Silizium, Saphir, YAG, CaF₂.
Partikelgröße XC-35: 50 nm
Partikelgröße XC-40: 90 nm

Typ PMI-2

Poliersuspension aus seltenen Erden (Cer) für die Feinstpolitur von optischen Gläsern.

Weitere Typen

Wir fertigen darüber hinaus weitere Poliersuspensionen für Materialien wie Saphir, Siliziumcarbide und viele weitere ultra-harte Carbide und Nitride. Gern finden wir gemeinsam mit Ihnen die passende Lösung für Ihre Bedarfe.

Vorteile der dopa Poliermittel

Ermöglicht perfekte Oberflächenpolitur
Kompatibel mit allen gängigen harten und mittelharten PU-Poliertüchern und Poliertüchern des Suede-Typs
Erreicht konstant hohe Abtragsraten und verbessert damit die Prozesskontrolle
Robuste Suspensionsformulierung mit hoher Standzeit
Hohe Abtragsraten (MRR)